授業概要
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様々な分野に使用される薄膜作製技術、特に気相成長法について講義を行う。関連分野である、真空工学やプラズマ工学についても扱う。
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到達すべき 目標
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種々の薄膜作製法の利点、欠点を理解すること、作製された膜の評価手法について理解することを目標とする。
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授業計画と 準備学習
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第1回:薄膜作製技術の概要 第2回:気相の化学反応、表面反応 第3回:PVDプロセス 第4回:CVDプロセス(1) 第5回:CVDプロセス(2) 第6回:薄膜の評価手法 第7回:真空技術 第8回:まとめ
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授業の特色
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学生のアク ティブ・ラー ニングを 促す取組
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修士課程の受講生自身の研究で、真空技術やプラズマを使用している場合、なぜ実験装置がそのような構成になっているのかを本講義を通して理解できるようにする。
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使用言語
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TA,SA配置 予定
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基盤的能力 専門的能力
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授業時間外 の学習
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参考資料をAIMS等にアップロードするので自身の研究に関係ある場合は授業時間外に目を通しておくことが望ましい。
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成績評価の 方法
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毎回の講義時に小テストを行う。その小テストと最後のレポートによって評価を行う。
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到達度評価 の観点
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テキスト
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テキスト (詳細)
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参考文献
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参考文献 (詳細)
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担当教員実 務経験内容 または実践 的教育内容
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実践的授業 内容等
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備考
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【連絡先】 [担当者] 西田 哲 [居室]E棟107号室 [電話] 内線2538 [メール]snishida@gifu-u.ac.jp
【授業実施形態】対面で実施する。 ・受講希望者が多く、講義室の変更などでも対応できない場合は第1回目で講義室の定員の60%を目途に抽選を行い受講制限を行う可能性がある。抽選を行うので1回目の講義には必ず参加すること。 ・実施形態については岐阜大学の指針に従い変更となる可能性がある。 ・AIMSをよく確認しておくこと。
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